TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:008 ~% r/ G {: H( n6 o
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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0 s2 Z6 H0 s( |9 a6 w/ i& A个人感觉：相比于前一阵 ...
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! @9 S: j v$ Y. C& ^0 E# U0 p应该会在5年内实现吧。- j( `, ^6 E7 W. T% J7 w( {/ S
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看） T0 `" D6 e1 D* B+ v. P
24-9-16 23:551 E0 ?; g' @& D9 N
发布于 湖南- y3 G+ v, p7 c% ]
来自 微博网页版
: C. d& k( ~2 c$ N: g7 s$ B啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机* s7 m. V" n M( i
不是运过来就能直接开工的。
1 f/ N: e1 f3 T1 S9 j他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：4 C5 Q( j2 f8 Y9 P6 A l r# {
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。: P2 z: F8 _5 [6 |- a+ t1 t: o
% Y% T, D- [' [. N2 T, v; T简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
" U! k. Z8 o8 U; y/ I' d4 @! L9 e干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
3 o. i& w& u* \& B6 H" x多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）9 L- j8 g0 e& t$ X4 x
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。2 K% K/ s6 y3 p$ |+ H/ Z( V
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
5 S" M- A, p" c. r3 s3 Q#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20