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[科普知识] 国产光刻机猜测

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  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-8-27 22:14
  • 签到天数: 351 天

    [LV.8]合体

    21#
    发表于 2024-9-17 08:06:46 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
    7 ]: h+ i0 ~, y( R. b. Q: B) |也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!" n2 E' I4 K& q" ]# I7 I
      v. O2 |* F8 Q  d7 J+ D8 F
    个人感觉:相比于前一阵 ...
    * d6 S2 |, J! m
    + G" m2 @, h; Q9 c! K
    这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。
    2 |# R6 P2 z2 F: v; g" M0 b" Z
    应该会在5年内实现吧。
    8 c2 X! Q" a9 d1 Y+ b8 ~9 F9 L: |- K" v+ y$ e
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
    9 V8 Y% E3 q( L4 U+ {0 N24-9-16 23:55: Q" A2 Q4 Y9 e6 n& t
    发布于 湖南
    ( a1 `/ ^) \# t& X, e来自 微博网页版; R2 k& T9 V  U5 r5 U
    啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
    . |5 O1 a) z* ^$ u1 \. m" o" r: W不是运过来就能直接开工的。- W& O' M% d' e- u6 q0 C
    他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。- {" p. c  u; k9 r0 t/ Y" [0 y

    5 u7 s( \" m. o: n% _这个时间很长,也是我常年说:
    / ~' b/ {; s# u; ^4 K: T+ B就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。7 s. g' f! {5 x
    , U% ?' \  v3 l) [4 w- \6 D
    现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
    8 Q* D' C- V; y6 x8 G* E! T/ K2 H& S3 e
    简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。  J1 s% F0 z" s0 V+ J
    干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
    % y! A% @  E" J0 E9 T" k多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)2 L. V6 l/ I: A9 ^! v' v; n
    但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了/ C) Z* v$ U' X
    2 g$ h6 P3 Z1 b1 L
    没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
    ; _: i7 q. O0 p3 m. }普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
    ) Z- L8 ^1 Y' |0 o#华为mate70# 也没多久了。- a3 i# W. Z3 z

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    这真是极好的: 5.0
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      发表于 2024-9-18 15:38
    给力: 5 涨姿势: 5 这真是极好的: 5
      发表于 2024-9-17 08:38
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    22#
     楼主| 发表于 2024-9-17 08:15:36 | 只看该作者
    老财迷 发表于 2024-9-16 16:06, h6 q5 {# g$ h2 F! D  ]
    应该会在5年内实现吧。& _+ w  @. H# l* }8 B
    5 d2 e& E: ]9 \+ c: Y& m: Q+ I( [
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)

    2 j: Q2 R, H& z" b/ O" k$ ~' l2 H9 F+ n7 y% f/ l
    这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

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    以你说的为准 :)  发表于 2024-9-17 15:27

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    23#
    发表于 2024-9-17 08:39:20 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 18:154 f; p0 R" j3 ~* K' o
    这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

    ; ?8 C: J0 e1 r但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    24#
     楼主| 发表于 2024-9-17 10:54:17 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 18:56 编辑 ; m/ S- ?* X; H" B* K
    晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
    ' ]& z0 }5 }7 q9 S但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
    ! x# c" u( b( u) G: c

    + [& Y+ [+ ]( A按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    7 N4 d5 T2 e/ w* c所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述

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    25#
    发表于 2024-9-17 11:08:25 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
    1 k- G# R2 q0 a3 `  W' O, U不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?
    ! }, ^& E: {  y5 D4 C% R! x
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积电用193nm光刻机率先量产7nm,三星则以更先进的EUV光刻机应战,由于对新型光刻机的熟悉不足,结果良率低下,很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝,开出比台积电低30%的代工费用,才勉强留下大客户。

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      发表于 2024-9-17 15:28

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    26#
    发表于 2024-9-17 11:13:01 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54" V2 Q0 t, {& [: h# }% a, K
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
      e) |. v3 [9 s( {, N  `3 z所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    6 E3 X5 T. u7 j9 h' J7 ?5 Y有道理。1 y+ z1 {$ q7 w5 [/ I4 T0 ~

    - c7 M* S1 R! s0 {不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资吊着。不退场,但也不全力以赴。
    + ], l# [( d4 C: M8 ], S4 u) a
    中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。8 G! ~# l8 m9 y, Z! i) a

    . T" R/ V5 j* L: n  I% R6 I. V这会有差别吗?
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    27#
    发表于 2024-9-17 11:13:37 | 只看该作者
    沉宝 发表于 2024-9-16 21:08. W0 ?& K( {* \; G1 q/ B$ O3 S# s9 y
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...

    % h/ u7 ~) ^- Q! E. ]" h这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。
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    28#
    发表于 2024-9-17 11:19:08 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
    / b7 Z' A) M1 t按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    2 L/ m6 f+ l) y/ D. O所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    5 D$ u: _+ D/ C
    还没搞定?
    ! j3 f+ H  m, y: Y5 J- Z! ]我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个,然后过去一起做,看能不能用。那个时候估计还是早期,这些基础的问题都没个数。做了几个实验,证明可以捕捉到微气泡发生,成长和运动的轨迹,我就撤了。这都十五年过去了。( x# \; S6 A, P; A" C
    尼康那时候已经有点不灵的迹象,食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。- o& k; A7 S& ~

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    坛里藏龙卧虎啊  发表于 2024-9-17 15:31

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    29#
    发表于 2024-9-17 11:21:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
    + ?4 x  [( h7 q1 D* f% q按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定: p& v" O8 _/ q. P7 g, b9 `2 L- \9 n
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    3 o% l7 g" t  Z
    突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了,因为光刻机的事,这说法准确吗?高端NAND需要多少nm节点的光刻机?
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    30#
    发表于 2024-9-17 11:23:33 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13/ y2 s- V2 G! E0 S
    有道理。
    9 G: X9 ~) E, K. z/ W" l- _8 t3 E$ {  s# {; a
    不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...
    ) u; K! ?. n  y: F' b# o
    可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
    * h; z# r! L8 d/ l很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词,叫硬直化。所有的钱都有定好的用处,几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了,钱全都拿去维持日常运转了。

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      发表于 2024-9-17 15:32

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    31#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:28:54 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 19:33 编辑
    2 G: l& c0 a; a) Y6 z/ v
    雷声 发表于 2024-9-16 19:192 B: r  O, n- d  [% P5 L' j
    还没搞定?
    # y& P1 }. o3 K我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...
    - ^9 g6 C, B% a4 K8 `1 I

    , d9 j! ~; p( K0 LNikon是稳定性不行,被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会,Nikon还吹牛自己行了,但主流客户没人用。/ ]& ]( y, D. w: P, [* g6 G
    有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。
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    2023-2-8 04:51
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    32#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:31:01 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:21% g: p7 s' T: f# |7 F
    突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...
    0 e- N! }# f/ S9 x" i
    存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。
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    33#
    发表于 2024-9-17 11:34:00 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
    - g! r4 W+ t/ c( x- @3 J" u- ?存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

    3 R2 _0 S4 _7 \7 I$ ]4 U% z需要用到浸润DUV吗?6 b( D! d$ W; U7 U, V' G9 N
    # N  r- q( s. b' ?
    我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗?
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    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    34#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:37:50 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:34( P; n9 J% }0 o; B% V# l' V
    需要用到浸润DUV吗?
    : O% `0 T! k2 M# t1 m- O1 A+ b! G4 M$ t; v- o) \: F
    我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...
    ) }# X: g# ]# u2 ?/ Z/ J, j
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。
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    35#
    发表于 2024-9-17 11:38:06 | 只看该作者
    雷声 发表于 2024-9-16 21:23
    6 n( @0 k9 a  |可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...

    : I2 X5 c) Q8 W是的,需要钱的地方太多,但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向,优先级比谁都高。这个瓶颈突破后,不只是军事、科技上的阳关道,经济上也是大片的处女地啊。
      n5 `3 h& _, Y" _7 U! d7 d" d! V, d
    1 P) i6 P$ H( ]) a硬直化很形象。确实,西方家大业大,花钱手笔也大,但每一笔钱都预定了用处,活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳,就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择,但是唯一大家可接受的选择。
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    36#
    发表于 2024-9-17 11:40:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:37; q  h# p. J3 r# E7 e5 S
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...
      ^, L+ t" [! j# b! Y+ x+ n* o
    都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了?
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    37#
    发表于 2024-9-17 11:43:29 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54) p$ b! [. k4 l3 b' N1 Q
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定2 c  N4 A% R6 m+ c* v6 H
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    8 F8 O. h, L( ?  U" d4 J. O% [0 q具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均匀,从而折射率不均匀,影响成像。为了避免温差,必须让水快速流动混合,但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来,带到晶圆上,形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时,在浸液系统上与林本坚团队合作,方案修改了7-8回,耗时两年多才取得满意的结果。

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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    38#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:59:49 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 20:02 编辑
    8 B7 Z5 r( I: y0 X% Q
    沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
    / x0 q: G& d) T具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...

    6 ?4 {; v! k# q' {1 E( C8 m
    0 x( f1 @5 ]; V) U- U8 N% I这当然不容易,不过两年挺快啦,看看牙膏的10nm……
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
  • 签到天数: 1811 天

    [LV.Master]无

    39#
     楼主| 发表于 2024-9-17 12:01:58 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:40/ r: h+ e0 p) l- n: C' F' ~: J. @$ u
    都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...

    * C6 |0 ~( K* h不知道啦,也许是隐晦放风的说法。
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    40#
    发表于 2024-9-17 17:38:39 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    # s$ {  `: l3 t( ?- k2 o7 S这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

    7 h+ v' N$ a' _+ F! ?中国大,各地方人气质不一,各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来,韩国近东北山东,台湾精英是江浙后代。
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