TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
7 ]: h+ i0 ~, y( R. b. Q: B) |也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!" n2 E' I4 K& q" ]# I7 I
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个人感觉:相比于前一阵 ... * d6 S2 |, J! m
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
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发布于 湖南
( a1 `/ ^) \# t& X, e来自 微博网页版; R2 k& T9 V U5 r5 U
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
. |5 O1 a) z* ^$ u1 \. m" o" r: W不是运过来就能直接开工的。- W& O' M% d' e- u6 q0 C
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。- {" p. c u; k9 r0 t/ Y" [0 y
5 u7 s( \" m. o: n% _这个时间很长,也是我常年说:
/ ~' b/ {; s# u; ^4 K: T+ B就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。7 s. g' f! {5 x
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。 J1 s% F0 z" s0 V+ J
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
% y! A% @ E" J0 E9 T" k多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)2 L. V6 l/ I: A9 ^! v' v; n
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了/ C) Z* v$ U' X
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
; _: i7 q. O0 p3 m. }普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
) Z- L8 ^1 Y' |0 o#华为mate70# 也没多久了。- a3 i# W. Z3 z
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