TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
) l0 A% R+ v; j- W4 |5 t也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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4 V" W, p2 M) N3 a1 v应该会在5年内实现吧。& k1 w( Y$ ]# O
5 u: W+ t0 I( n6 K8 x# c微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
6 f3 O# N' g6 ?; \; l24-9-16 23:551 U" i' f. w. M; p' W
发布于 湖南
; I( P. m: S* ?1 X+ T0 C+ d' i来自 微博网页版
! S# a0 T% z8 V N" ^+ c( w9 J啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机$ h0 g E* P' b7 b& M
不是运过来就能直接开工的。
- \6 ^; L; H! m, N( D) I5 Q: P他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。, j' H5 l8 `9 @' r8 x' l/ g
& w7 B5 C7 z/ F) k* h# J( X这个时间很长，也是我常年说：
& O- p3 @3 F+ Z- ?就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。/ A3 Q% z' x$ }$ Q
3 X: O3 Q. U5 s6 C/ c" v简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。( q$ N' K3 f/ O) t
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
, q5 ^. ^3 g2 F多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）( v- C: |. t# k* d' \! Z8 ^/ p
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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7 b8 a# ]' H* g+ i- L3 ~没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。+ }2 N9 k. [5 `" O4 Y3 F$ t) j
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。+ K) J7 x$ U0 Q* a, Q6 [' i0 b
#华为mate70# 也没多久了。: w3 M$ l* k: @8 ^1 u# U
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20