TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:007 T1 }. Y3 _0 [( I: L
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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/ P. z- q/ k% v1 b& t9 o& z" J个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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$ a; |# S: X& W+ [微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）$ R" {5 p- y- d" T# r2 q
24-9-16 23:55
/ T# G! D, {1 J发布于 湖南9 N' w( G/ C8 i2 ~% v
来自 微博网页版
2 [/ ^7 r3 R+ l. ^; T. B0 Z啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机' Y0 \) N) P* t+ X" x) |8 o
不是运过来就能直接开工的。' W+ _: X& ]; h3 a( ~4 \7 P
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。2 k8 o6 n/ H" _/ \
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这个时间很长，也是我常年说：
: }+ t+ t* a8 X0 K+ ^6 G# v; s就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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9 f/ l4 W3 r+ |现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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0 I9 r' g: h( K* B% {简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
: E2 T8 Q# j N+ V- o干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）) X, B6 X4 o7 L& p; }2 X& v6 X+ }! I
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）3 M1 v4 K2 w9 d: P/ ~! [! j
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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1 S0 X3 I9 ]+ ?2 h没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。6 x; e1 _4 y/ x7 Y# e' }0 I3 D
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。 n" [5 P$ Q, h4 Q
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20