TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:004 o v$ U. B& y, I% r1 C* ^: f
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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! A5 M, r" E& Y- ] L个人感觉:相比于前一阵 ...
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8 }$ V. r9 m7 v6 h) {$ O' u应该会在5年内实现吧。
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& R$ Z7 a# t# w! i5 F微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
& N1 B" Y2 C, `% ~+ m, x5 K24-9-16 23:55/ Y7 S6 @% l: \
发布于 湖南
0 J. G0 n9 G, z% q5 A: |( _- i来自 微博网页版0 x- y2 {% u' e9 ~4 w
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机$ A ?; V- z+ @- R! f' W
不是运过来就能直接开工的。
, A; k) i3 _3 a8 K' q" s& D; n6 i他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长,也是我常年说:0 w" I- \0 N0 I5 ~( ` u6 s$ z
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。: W3 Y4 u8 v% B1 G7 D7 B
L; w& h0 G) L8 ~* ?# P9 V4 a现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。( o! m1 t/ U, Q
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。+ B* U+ x( }7 ^' R y$ x
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
: W Y( U7 T5 F4 c多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)2 s! q" a8 D p/ |0 k' `- ?
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了' L# b+ x2 \! x; w' x8 B
$ i; c1 W- |6 M# Z没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
3 F* b5 }' x. s4 ^普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
# ] {, K' _- w% ?. J#华为mate70# 也没多久了。0 Z( c7 Z& Z/ i) I3 a
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