TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
+ m0 W5 ?* r) v1 X9 x0 [也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！ J: x& r0 j1 c
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。# L: O3 ^+ Q! T( G3 S
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）# i. }5 ]5 w9 Y! t+ _5 t
24-9-16 23:55
3 z# s4 \) J. D4 s6 i' b发布于 湖南
: h" a) g& C$ u' f来自 微博网页版% H- y7 p2 H5 b- `8 }6 ^- T \3 b
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机5 a5 \' L: }! {* b/ o
不是运过来就能直接开工的。
3 G0 f& Q% G/ Y' o6 C他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。' t- i7 m9 F8 T$ K+ s2 O7 Q0 `
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这个时间很长，也是我常年说：
6 n0 P) [) c+ p; ^% }4 h) q就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。: L2 o) L g* U' d# \% C
5 p# @, F; R8 U! k: Z" }
简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
$ Z2 C# c; H2 v: m) A" E干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
" T( n' A6 V6 K4 Z9 Z多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）4 F4 n6 N* |3 c, u) x3 x& S
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了1 m- h0 S" P* J
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。' J+ P2 x$ L: z) n' Q6 o
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
$ u* U5 E9 Z# A$ j$ j#华为mate70# 也没多久了。0 {( b h. n; o: Q. S/ I
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20