TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
|---|
签到天数: 351 天 [LV.8]合体
|
晨枫 发表于 2024-9-16 14:007 T1 }. Y3 _0 [( I: L
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
& k0 H- J4 T7 f ^5 b# C9 a) C% X
/ P. z- q/ k% v1 b& t9 o& z" J个人感觉:相比于前一阵 ... 3 N9 e, i( w/ I7 U. ^
- u" N7 O, l0 `* F! N; K( }
8 }+ C" W$ H# _' n1 |, G# q# _) u1 v
应该会在5年内实现吧。
9 ?( L/ q3 n% {# k
$ a; |# S: X& W+ [微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)$ R" {5 p- y- d" T# r2 q
24-9-16 23:55
/ T# G! D, {1 J发布于 湖南9 N' w( G/ C8 i2 ~% v
来自 微博网页版
2 [/ ^7 r3 R+ l. ^; T. B0 Z啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机' Y0 \) N) P* t+ X" x) |8 o
不是运过来就能直接开工的。' W+ _: X& ]; h3 a( ~4 \7 P
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。2 k8 o6 n/ H" _/ \
$ {! r% Z$ O: U# P$ d
这个时间很长,也是我常年说:
: }+ t+ t* a8 X0 K+ ^6 G# v; s就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
1 g4 A" M! \( T7 c2 }! K5 U: h! X8 F
9 f/ l4 W3 r+ |现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
) v4 V# z8 v0 U$ g1 k3 t
0 I9 r' g: h( K* B% {简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
: E2 T8 Q# j N+ V- o干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)) X, B6 X4 o7 L& p; }2 X& v6 X+ }! I
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)3 M1 v4 K2 w9 d: P/ ~! [! j
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
" m' C9 e' Y9 X3 A8 b- z
1 S0 X3 I9 ]+ ?2 h没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。6 x; e1 _4 y/ x7 Y# e' }0 I3 D
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。 n" [5 P$ Q, h4 Q
#华为mate70# 也没多久了。
& X% b$ p& s6 ]; | w* U- o# \ |
|