TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00, c+ V6 G4 w0 o. e# j" {5 u
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!0 G0 F6 C0 c$ J
' d9 S3 x/ z- r) f9 `个人感觉:相比于前一阵 ...
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; f. M8 b% M M [% }' L应该会在5年内实现吧。
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, r2 I7 i4 C) P" E; J( }微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
9 |! J4 z( |( g6 I' O24-9-16 23:55
+ ~; _ n- P& k7 K% G发布于 湖南9 ]) m1 z9 F# ?; w* T( `! C) M
来自 微博网页版
7 [ h- h" y6 Y啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
4 @; I3 N5 \& ^+ p+ A不是运过来就能直接开工的。
, |2 g, D2 H! ^2 u3 ~2 B他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。- C2 W3 ~' F5 Y
6 u: c( w/ b% V& ^" R这个时间很长,也是我常年说:$ |- Y v* U! C. E
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
5 n& @$ ^3 n* G7 A f干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
v; p+ P! w0 b5 ^多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
+ {7 |2 t; t) Z W+ [' H! d1 ^* r但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了" T5 I: e! j2 K$ j }
5 B: H7 {8 H# Y% a* D没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
, H& Z6 S5 ~9 J+ {普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。+ d# W4 }& Y2 {6 E: x2 B
#华为mate70# 也没多久了。; r' z* k5 E p0 ~/ ]
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