TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:004 O J) N* {- a
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！; g& D! \% Y" Z# C$ I" m! X! [+ J
/ _& B0 R+ w3 C0 K个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
' f8 j& p! ?. Q0 F! X \24-9-16 23:55/ A! Q0 Z/ T& O0 ?: \4 c
发布于 湖南2 ]0 r4 W1 h9 J6 {& Z
来自 微博网页版
; w: |9 {3 P1 }6 z+ E6 O, S! {啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机3 k, i7 B2 W) ?1 a! E9 E4 Y, y
不是运过来就能直接开工的。
3 p3 r$ @: F+ `" A( T他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。5 ^2 d, ?- s' k9 [. o" o
$ B4 y8 Q3 [4 H6 u" I/ E这个时间很长，也是我常年说：
- J6 l4 D% ]6 a7 t q就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。0 N7 J3 B1 [2 h! c" u3 O) M w* B
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
4 e+ r; M5 |- C- n7 ~1 @" D干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
$ F0 Z6 x$ V. d9 F6 a& N多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）3 P6 E6 [$ m9 e2 N+ F3 Y
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
- L9 P0 h3 R3 [普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。( Y+ y) C0 Q9 S" d5 ?8 b' A
#华为mate70# 也没多久了。! l! O: c8 J) B7 F
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20