TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:007 J0 ~7 p6 [0 x- H" `4 f
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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个人感觉:相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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7 g& Z+ P7 n& {- ]0 O微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)5 O) I) J0 y# ~( a' V! z% }
24-9-16 23:55
2 W& D* O, d$ m: {. M( H发布于 湖南: L& U: e: j% Q ^! X9 F
来自 微博网页版' `5 K9 u5 J Z9 `( A" Q0 L* }
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机. s- l) f( r$ [2 a! {" z
不是运过来就能直接开工的。- l2 M# b! N. f; _/ f
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。 h, P1 H; h) R$ g1 I4 E2 p& \. C2 Y
6 K5 V3 o, h2 v# E这个时间很长,也是我常年说:
8 X" U& y6 o- t就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。$ q z# {7 o; F3 t* R0 C) Y
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。6 J5 ?" D" G. Q3 G! q
4 r6 t8 t9 A# p6 A; G简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
4 r8 Z! k2 ~" ]) S% Q: K干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)" }, u8 o; b& G. w
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)9 X8 S) w$ ~/ g# F6 V
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
" {1 l( Y: T; s' P普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。- ~- [& s. m- ?
#华为mate70# 也没多久了。6 u( m& X4 J, g/ K6 s/ c
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