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[科普知识] 国产光刻机猜测

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  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-8-27 22:14
  • 签到天数: 351 天

    [LV.8]合体

    21#
    发表于 2024-9-17 08:06:46 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 14:007 J0 ~7 p6 [0 x- H" `4 f
    也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
    2 P) ^! D, @# S; T1 t/ |$ |. t- n! U- {" y" F& p
    个人感觉:相比于前一阵 ...

    + B- y" P" s" D, J' T7 y" w9 x' a6 f1 |0 R- h) u
    这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。
    ) _* ]+ J6 J) R8 P# _
    应该会在5年内实现吧。
    ! u( h  \" O5 `% J
    7 g& Z+ P7 n& {- ]0 O微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)5 O) I) J0 y# ~( a' V! z% }
    24-9-16 23:55
    2 W& D* O, d$ m: {. M( H发布于 湖南: L& U: e: j% Q  ^! X9 F
    来自 微博网页版' `5 K9 u5 J  Z9 `( A" Q0 L* }
    啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机. s- l) f( r$ [2 a! {" z
    不是运过来就能直接开工的。- l2 M# b! N. f; _/ f
    他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。  h, P1 H; h) R$ g1 I4 E2 p& \. C2 Y

    6 K5 V3 o, h2 v# E这个时间很长,也是我常年说:
    8 X" U& y6 o- t就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。$ q  z# {7 o; F3 t* R0 C) Y
    ) _9 f0 {, a) J" N1 \% }4 p+ ]
    现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。6 J5 ?" D" G. Q3 G! q

    4 r6 t8 t9 A# p6 A; G简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
    4 r8 Z! k2 ~" ]) S% Q: K干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)" }, u8 o; b& G. w
    多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)9 X8 S) w$ ~/ g# F6 V
    但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
    , l% w3 ~2 ?, |; B: V2 I9 C4 r! X& X4 L9 {
    没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
    " {1 l( Y: T; s' P普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。- ~- [& s. m- ?
    #华为mate70# 也没多久了。6 u( m& X4 J, g/ K6 s/ c

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    这真是极好的: 5.0
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      发表于 2024-9-18 15:38
    给力: 5 涨姿势: 5 这真是极好的: 5
      发表于 2024-9-17 08:38
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    22#
     楼主| 发表于 2024-9-17 08:15:36 | 只看该作者
    老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
    4 W0 l& x( A) v8 C- ^应该会在5年内实现吧。1 E5 M9 ]* ~5 W  X) K' P) v/ j! m- R6 I
    & {; j2 T% [) ], x" f0 X8 B
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
    : Q7 x& h1 P* y1 ]  I4 p; i
    ; ^( P) G  V- H6 P( b* A2 A
    这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

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    以你说的为准 :)  发表于 2024-9-17 15:27

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    23#
    发表于 2024-9-17 08:39:20 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
    , Y7 y6 i7 M3 E这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

    ( g& s5 E3 ~7 _6 v但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    24#
     楼主| 发表于 2024-9-17 10:54:17 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 18:56 编辑 ! l) W8 Q0 a- G3 b) e
    晨枫 发表于 2024-9-16 16:397 B4 T0 n" g/ o+ a) B& [/ t" C
    但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
    9 C: y4 U# C8 P" ?4 L$ b/ K9 M

    , L. E6 \  D+ g0 O4 C按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    4 \( g; N5 v8 a+ \/ B所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述

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    25#
    发表于 2024-9-17 11:08:25 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 03:34: }  m) D9 C2 l+ |9 V; L  U: {
    不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?

    5 K, u* c+ Z- w$ k理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积电用193nm光刻机率先量产7nm,三星则以更先进的EUV光刻机应战,由于对新型光刻机的熟悉不足,结果良率低下,很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝,开出比台积电低30%的代工费用,才勉强留下大客户。

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      发表于 2024-9-17 15:28

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    26#
    发表于 2024-9-17 11:13:01 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54% u) O% Q6 M( A' b6 G( X# e
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    : R: p) o% [$ ?7 c' Y9 u所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    - H! L" n0 P# A. O有道理。( S# ~( [9 G3 L( G) c$ w+ P

    & L& j: O8 F  z, x, o) j3 ]不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资吊着。不退场,但也不全力以赴。
      F( Y5 J: ~) K
    $ U2 u0 }; L5 n1 g/ y: p3 C中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。$ L. L) D" z$ {+ U5 |6 ~/ K( Q

    " j5 o9 ^+ a! w; [; ^这会有差别吗?
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    27#
    发表于 2024-9-17 11:13:37 | 只看该作者
    沉宝 发表于 2024-9-16 21:08/ Q, M: T+ R7 C$ Z4 {9 f
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...

    * ]6 q5 \+ r* R1 d这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。
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    28#
    发表于 2024-9-17 11:19:08 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
    6 i4 C2 F3 O/ b( }$ U按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定8 b- d* X' U! o' y+ o
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    6 s7 W$ F& b. G% j
    还没搞定? ' u5 }9 ]& _8 M6 T# B
    我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个,然后过去一起做,看能不能用。那个时候估计还是早期,这些基础的问题都没个数。做了几个实验,证明可以捕捉到微气泡发生,成长和运动的轨迹,我就撤了。这都十五年过去了。4 y+ T) p6 K7 a9 U0 z! O; [0 u
    尼康那时候已经有点不灵的迹象,食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。. d7 I  g" ]9 W- ^

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    坛里藏龙卧虎啊  发表于 2024-9-17 15:31

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    29#
    发表于 2024-9-17 11:21:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:541 b( ]. ~* o. B
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定4 g7 T7 r- g+ s
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    1 t$ D) j9 A3 C( t0 W( p+ I
    突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了,因为光刻机的事,这说法准确吗?高端NAND需要多少nm节点的光刻机?
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    30#
    发表于 2024-9-17 11:23:33 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    9 p, I% o7 ~+ y+ J( c, M+ ]. M有道理。
    # F0 @' D. I8 T, y' h5 y& I4 H
    1 x) L% f5 I0 P" @* m不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...

    : c; S2 @& c+ S可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
    ( w2 b( C+ O# G很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词,叫硬直化。所有的钱都有定好的用处,几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了,钱全都拿去维持日常运转了。

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      发表于 2024-9-17 15:32

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    31#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:28:54 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 19:33 编辑
    ; v( J& D9 P. ^. N/ j  Z, l
    雷声 发表于 2024-9-16 19:19
    , d+ {2 O2 E9 J5 ?1 E7 ~还没搞定? " d. S! U- q, I8 I: j/ @8 ?
    我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...
    - N, S- i6 J( w1 ~; [! \
    9 U; |0 b7 n# w& y" x9 r: e
    Nikon是稳定性不行,被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会,Nikon还吹牛自己行了,但主流客户没人用。- D5 R5 C6 O* E. ]
    有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。
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    32#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:31:01 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
    * R- X2 F4 N  z. V+ k9 P突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

    ' C; y. U, @' r: _& m" L3 y存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。
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    33#
    发表于 2024-9-17 11:34:00 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:313 P( O" n( s0 B( N6 F. R
    存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

    " O/ `7 [/ v0 O) H7 z! u4 O( w5 c需要用到浸润DUV吗?: A. r/ A* ?' f

    $ {4 [3 E5 U7 B) `' |, n, E  n我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗?
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    [LV.Master]无

    34#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:37:50 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:34" v7 K3 D& b* i  s$ h& R5 Y' D
    需要用到浸润DUV吗?
    - [9 `; m- z; K/ s1 I4 ~- Q5 _8 q0 [* ?
    我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...
    ( d% H& S+ `" k4 s. M" {
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。
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    35#
    发表于 2024-9-17 11:38:06 | 只看该作者
    雷声 发表于 2024-9-16 21:23
    : q5 H; |# X+ g- L- A6 c8 C可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...

    5 S- R- O6 f' G  M) W. ^是的,需要钱的地方太多,但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向,优先级比谁都高。这个瓶颈突破后,不只是军事、科技上的阳关道,经济上也是大片的处女地啊。
    6 K$ b, _. V, p# r- X0 p# {) _: T
    ! C+ \1 E- M5 \+ U* u# f+ w硬直化很形象。确实,西方家大业大,花钱手笔也大,但每一笔钱都预定了用处,活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳,就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择,但是唯一大家可接受的选择。
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    36#
    发表于 2024-9-17 11:40:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:37) A) S2 q) ]  `# Y+ D6 [1 B
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

    7 D8 P  L& w8 v  h+ }; t2 [都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了?
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    37#
    发表于 2024-9-17 11:43:29 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
    + C, [; y( \: C3 T按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    ( Y1 u' {$ F0 [! Y+ I# e所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    , N5 z5 X7 e# e: F0 j$ g具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均匀,从而折射率不均匀,影响成像。为了避免温差,必须让水快速流动混合,但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来,带到晶圆上,形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时,在浸液系统上与林本坚团队合作,方案修改了7-8回,耗时两年多才取得满意的结果。

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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    38#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:59:49 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 20:02 编辑
    % l4 N! d5 k+ I. [7 j0 A+ n
    沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
    3 W5 H: J6 O) W' V2 n9 W具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...

    0 _6 G2 W, V; \% t- ~# n3 Y  D1 ?# v; I' b4 X* k7 b- z* }7 i
    这当然不容易,不过两年挺快啦,看看牙膏的10nm……
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    39#
     楼主| 发表于 2024-9-17 12:01:58 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:406 Z/ U& f  i; [/ l& O* p+ Q
    都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...

    ' i: B6 D6 @4 \# e; M不知道啦,也许是隐晦放风的说法。
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    40#
    发表于 2024-9-17 17:38:39 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    , G% j" ^# T, q" }这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...
    + R0 z0 E2 @2 {( @
    中国大,各地方人气质不一,各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来,韩国近东北山东,台湾精英是江浙后代。
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