TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:005 S3 _. q- g, V' L' Z
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!$ `1 p2 G4 n0 N1 \" K3 [
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个人感觉:相比于前一阵 ... , d5 t( e6 x" W5 ]8 [" r
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应该会在5年内实现吧。
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/ y9 u5 ^' B* P# Y# h4 R微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
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发布于 湖南+ M$ N! a, S. X9 R8 W& B
来自 微博网页版
0 U. ~1 v8 P9 F. P. n; ~啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机9 ?2 x; k+ y( h; P9 c' e, C6 }
不是运过来就能直接开工的。/ z# I1 s! ~0 u: T# {
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。! `6 X; a8 W; A* m
4 ]' q$ v8 U" {3 Z这个时间很长,也是我常年说:' M$ ^% s* x" i! e9 r4 q' M
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。- b5 e4 p) J8 f+ C8 Y5 j
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。. A- `2 ^4 X; {0 y7 s( {9 i
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。, a6 H w4 [1 j- B$ M5 P/ I
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)$ i1 X& p6 T2 T7 v6 c7 \! N( K! s
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)$ Y; T2 y F& W' m: u; {# f
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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0 [ I, R" C2 M! b# E E% u0 ]没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
2 r( t1 }7 x+ b( S/ o普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
; a/ f' ^, E+ W#华为mate70# 也没多久了。0 Q4 }% Q7 E- A0 r, ]% G
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