TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
0 G6 i* f7 j. J也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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& L, p: b2 K' ]个人感觉：相比于前一阵 ...
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1 ?+ o5 e( l Q; ~' f' C5 i应该会在5年内实现吧。
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( K1 d* n; P8 x/ X- K微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
2 P; Z3 F0 c6 _* a24-9-16 23:55. Y; F/ A* I& O6 g f
发布于 湖南0 Z6 T4 d2 I* Y6 T9 p5 r9 e/ \
来自 微博网页版/ g2 Z! P2 t! w, z
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
$ Z! l, M+ p J# C不是运过来就能直接开工的。. V; f3 h, c( l( _4 b6 n
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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& a) }1 b) b. r4 Y这个时间很长，也是我常年说：; B, g$ V1 }2 L
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。1 i! i2 p+ n G! u5 U9 ^
9 H/ G, W. t0 o i0 I1 g现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
! A0 t, {3 L# ^8 z7 i4 a1 ]2 N干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）5 i" a# U; z( A# v7 T
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）/ R5 F' P7 a2 U! h( P; ?
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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' I3 E9 `/ x1 f/ s) n没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
6 q. v/ c3 T& P' C: q4 Z& V% Y普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。0 A) [' g* k6 S- }
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20