TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00- X% C: i& Y( S$ M" h
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！6 e1 ~8 Z. [9 t
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
: `, B7 c3 s. N! {# P& L& [( V: q, E7 F6 G/ I
微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
* q; q) G2 ^; d, `* \" O5 n24-9-16 23:55+ r! |. {+ a3 t5 h3 t
发布于 湖南
6 |) Q2 b2 p ?来自 微博网页版
0 t& ]) `: `6 q( n啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机" m6 H3 ?: I$ W( L& V3 x
不是运过来就能直接开工的。
4 f* x( H+ o% j7 R- M* G他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。: l1 g" a: K( V+ W& ?
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这个时间很长，也是我常年说：
% _) P, M* E) d就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。4 D0 J# h. Y' O
9 I2 B: k; u$ q现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。/ n" c% H% F2 t: V4 E
0 j- n6 I3 a; R! N简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
' f4 i9 C6 ?1 x5 l干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
. Z0 _7 i9 N; @) E! I多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
# C: [. }6 }- P/ E但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了6 s$ n$ o6 e9 S
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
4 u! d% A. C6 C0 p5 [普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。$ N/ v3 \2 K7 n g
#华为mate70# 也没多久了。5 X/ t) C" m8 L4 U3 r1 n$ }
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20