TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:007 M; A0 x- |; y! L" v
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！% C: c6 B# }3 g% k1 s7 f
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。6 h3 i; w8 Q% z9 S( K/ R
7 \/ w# ?) Q* {3 R& I( M微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
1 |% G' T* R$ ~, a B# ]" q24-9-16 23:55
: z% `' w) L9 S4 e! m: R发布于 湖南
8 ?3 f% I7 \/ s4 B' J! {来自 微博网页版
; i. |) Y6 j9 j5 G/ g啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
: Z: _; u* m- w不是运过来就能直接开工的。/ T6 i. F' E2 m7 e0 R
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。% r) R' p9 @& L; `& ^
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这个时间很长，也是我常年说：$ P7 `) o/ m9 D* U* B' B# \
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。4 J8 U' P9 \# V) g1 t7 Q1 G
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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: {" @) w$ S# n7 O简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。/ V/ K- \+ L. _' l ^2 n7 q2 M" a3 c
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）8 z9 J6 Y7 c. u# y. p6 u
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）+ U& H2 T3 M9 C s, b5 U" E7 s- r& M
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了$ a) y7 p O# c# n; Z* `
. n0 M( u. _3 r( z没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。 K& F, L1 Z: g: B
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。- x; H- o5 N) ?. l0 h. w
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20