TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00: N) t( F- u Q/ N
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！' d6 \+ S+ ^ }% O, K C
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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! q7 q0 k0 V2 r, |% b! A$ b) Y微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）% B3 z4 T; `. _: z; E6 B+ Y3 e7 \
24-9-16 23:55
/ `" q$ c/ b5 r2 D! |: A发布于 湖南% }+ p K: I. D( \$ c$ f9 L* u
来自 微博网页版+ I S& X/ I8 G# g0 C+ F1 v
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机" @: c: S" K" u, n1 L" a* y. o
不是运过来就能直接开工的。, s) s- Z1 R( ^1 K3 }
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：6 R P$ c# F" k' E
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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( F7 n" a x$ R$ c9 o$ g( }现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。$ ]. Z# z( v+ Q! A5 x: \
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
7 L) u# G- Q/ _0 I, h' }干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）" v0 t8 r1 m" `, K/ g
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）7 z$ }0 B9 `& q# y2 i( ]% @
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。1 f4 I- |* {0 W% L4 M
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
2 x( N: j! d& ]/ C#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20