TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
( X1 v5 i" K# w* S2 \也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！: H, D. I0 G) X- @& y( s
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。/ ^. Z$ K |0 o# q4 Q9 t
7 H& {$ Q9 x- q. L; ]% m微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）: N4 V- z$ _' u* d, V
24-9-16 23:553 Z9 ^9 V2 ~7 k* m8 l7 P3 K7 n
发布于 湖南$ {$ ^* x O- O, j! b( w' L
来自 微博网页版. q) o6 ?$ ]3 t- j
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机! w4 i/ [+ V- E( T
不是运过来就能直接开工的。
% k6 x( \# `- ?8 R他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
* f" |, J7 k( w, z$ C就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。) j. U( q3 E$ T( o
& l3 j9 m- G" s+ O8 V' s. t5 g现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。' f& }7 S) F2 p% {3 x" s; U0 f" B) @
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
" u8 D* P: [" n- ~7 M( c多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）/ n4 A2 v6 V5 g) t1 `6 U
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了) x9 @5 A/ m$ |1 F4 e" Z
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
# s: M$ m; v+ F/ T% ^) Q8 C5 f普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。, l+ E( E! {/ y/ c8 d% ~
#华为mate70# 也没多久了。' z: w- ]9 y1 u* N) e2 Q
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20