TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
2 o1 S. g' P( [' l% g+ O# O: |4 j也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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个人感觉:相比于前一阵 ... 9 E; ~( @' I1 Z( G
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' Z0 S9 I/ r+ y$ Q! i# ]应该会在5年内实现吧。
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& V# c- F2 a9 H( e3 F" V9 B2 i微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
) R4 A; c' H. p1 x0 w9 Y( Z24-9-16 23:55
+ K( z0 O4 e! {5 L. a9 `发布于 湖南
, h6 W K8 N" ~3 O来自 微博网页版; n2 z2 I& p3 y( t; O4 \; w6 b
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
3 \5 ?; L0 y/ {9 a9 @- ~& ]不是运过来就能直接开工的。3 U2 K* ~8 T* Q
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。: X$ o$ X% A% q. @4 T
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这个时间很长,也是我常年说:: ?# f/ E/ E0 a6 H
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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& N; y# ]# ^6 @1 r* c# z现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。/ S* s! c2 d9 j) a1 o/ s
0 ?: n" z" K# d5 W0 F! N9 C简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
% M5 q3 \! z) f; e5 y干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
- q4 k8 j5 ~7 I: q+ i) ~* }多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)0 S! F( ^) B2 {$ i9 M
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了, z8 q& E2 D$ U! k
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。- ?$ ~5 g! p+ K; Z
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
) i' n0 i3 J3 s8 c8 K#华为mate70# 也没多久了。/ c4 j# Q1 }% `2 ]' N/ q& a
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