TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:007 t# e% p9 D0 I: S, D9 c
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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5 i7 d4 }7 ~3 O+ G个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
y# _& H+ [$ B8 V" |$ B24-9-16 23:55
- R) u4 `9 b; x F: R发布于 湖南2 ]1 E" a) W1 C" U) `
来自 微博网页版7 \' L( U/ @' y) L# H: j* u
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机7 W( Y; Z* H$ V( Q! @$ |' V3 l
不是运过来就能直接开工的。
' a, c* n2 A- T: n; c9 _) Q他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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8 O' |5 S! ~3 U这个时间很长，也是我常年说：: l' g) X9 s" T* d" L
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。3 t0 a- S6 D) v# I' n' C* |! J
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。# u/ k' Z' ~ e, U$ [, j( {% q2 h( s
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。# t, E( q% }5 y) c0 \
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）& F# ?7 ?3 b. [$ [7 Y
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
( u9 M3 }+ x& R+ ~但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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! d$ y& I: c4 g, |, S. `9 Z- ^没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
' d8 S z+ G1 ^普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
Y& X+ k7 [0 m$ Z, V#华为mate70# 也没多久了。$ ^9 G# e# g! S( g
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20