TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
9 r- O7 ]2 N, h2 l* Z3 p) \1 w4 \也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！1 B" s5 [4 c$ Z1 \& K- y' z
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个人感觉：相比于前一阵 ...
7 p, X1 A% ^$ b3 x& O2 H/ m4 x9 {, r3 l% g6 T( @$ g6 R
应该会在5年内实现吧。
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" b+ R- q- O+ U0 h4 S0 [微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）7 ]# K0 \9 g6 r" D- }
24-9-16 23:551 q- b; b& ]- I# Q3 M6 D& T
发布于 湖南/ C7 K* A1 h" h4 e c
来自 微博网页版- x# V7 j1 S0 N
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
# o; ~# Z' r. T4 Q% H* B不是运过来就能直接开工的。' U; X$ }$ M& q+ J3 u- w
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。* X8 g4 z8 B# K: m
5 I. p' n! v+ H; }这个时间很长，也是我常年说：
4 r Q# w* F g- V就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。% l7 E% L( q" I1 d
+ }) ~# p, @; W5 a
现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
. p! D5 X) Y+ Q: A: {# t# Q' C1 l干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）3 a9 H* m& i( C/ B. y8 A
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）( c2 C+ }; O7 T, P
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。$ W9 X: |, x. W# }1 |7 p& ~
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。( f- ^0 s0 h& t: [
#华为mate70# 也没多久了。1 Z/ O: v! s4 c5 g3 C) d3 n! m6 \
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20