TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00& q+ b( A4 U) `. X0 k; D( F( T
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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1 j" e9 k/ J& A& R; B( f2 w个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
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: A/ G" K8 ]* n: b9 X发布于 湖南5 D+ Y* G% ~# C5 F
来自 微博网页版9 k' {" K; e0 l, ?* w
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
2 |- L& C+ L$ k% U7 I$ _不是运过来就能直接开工的。- f1 ^1 {5 V: c: D* ]1 m
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
, t- ^- o. i" a* O* r K% h, [就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。4 Q5 }" p0 b! p" ~6 Q4 s% H6 O
# R4 U* B% J5 E' A$ w简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。+ P: ]; P. z) D3 y% r/ f
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）9 n" u( c* h' }, h! X# b% J6 A( D
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）3 L! I& M* C- ~) d% ?( \
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了0 m8 M7 S ^+ l
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。, c+ [" i) `+ h ?' D
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。8 c) p3 I+ t1 H8 J0 t% p
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20